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1、 步进扫描光刻，融合了扫描投影光刻和分步重复光刻的一种光刻技术。
2、通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上的一部分来实现光刻。
3、扫描和图形转移过程结束后，晶片就步进到下一个曝光区域重复这一过程。
4、优点是增大了曝光场、可以获得较大的芯片尺寸，一次曝光可以曝光多个芯片等。
5、。
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